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碳化硅噴嘴有哪些技術要求

時間:2024-07-11 字號

  一些硬件行業用戶將相對了解碳化硅噴嘴的特點,都知道碳化硼研磨效率很高,所以一般在材料研磨過程中作為研磨介質,特別是用于寶石、陶瓷、工具、軸承、硬合金等硬材料研磨、研磨、鉆孔、拋光等。

    噴嘴布置的間距應合理。噴嘴噴出的錐形水霧應相互連接,無間隙。否則,煙氣可能會從間隙中溜走,而無法接觸液滴。調整噴嘴布置密度和噴涂層數,可獲得不同的噴涂重疊度。重疊度越高,脫硫效率越高,但阻力也會增加。一般噴霧重疊度為200%-300%。同時,噴嘴布置的另一個要求是不沖刷塔壁、噴霧母管和支撐件.


    噴嘴角是指漿液離開噴嘴后形成的液膜錐角,主要受噴嘴孔半徑、旋轉室半徑、漿液入口半徑等因素的影響。在選擇噴嘴角時,必須與塔內的噴嘴布置相結合,以確保塔內覆蓋的均勻性和覆蓋率,通常需要90個噴嘴角~120。


    噴嘴壓降是指漿液通過噴嘴通道造成的壓力損失,主要與噴嘴結構參數和漿液粘度有關。壓降越大,系統能耗越大。噴嘴壓降的典型值在0.05-0.15MPa之間。


    噴嘴流量是指單位時間內通過噴嘴的體積流量。噴嘴流量與噴嘴壓力降低、噴嘴結構參數等因素有關。在相同的噴嘴壓力降低條件下,噴嘴孔半徑越大,噴嘴流量越大。

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